IMP工艺气体传输控制柜

离子注入(IMP:-mplant)通过精确控制离子能量、注入剂量和温度等参数,可以实现对材料表面性能的优化和新性能的获取,为半导体、材料科学、生物医学等领域的发展提供了有力支持。离子注入工艺气体传输控制柜是离子注入设备的重要组成部分,它负责在离子注入过程中精确控制气体的流量、压力等关键参数,以满足离子注入工艺对气体供应的严格要求。该控制柜集成了高精度的流量控制、压力调节以及安全保护功能,确保离子注入工艺的稳定性和安全性。

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IMP工艺气体传输控制柜
IMP工艺气体传输控制柜
  • 产品特点
  • 产品参数
  • 质量管理

产品特点

高精度流量控制

高精度流量控制

流量控制器和压力调节器采用高精度设计,能够确保气体流量和压力的精确控制

通过对气路部分设计满足客户对小流量、低压力的气体流量控制,最终满足客户的工艺要求

安全稳定性

安全稳定性

气柜配有门互锁开关、压力安全开关、单向阀、手动进切断阀等安全部件保证气柜安全

设备采用全304不锈钢,外观30mm以上圆弧过渡设计保证良好导电性,提高了设备的安全性能。

高气密性

高气密性

产品采用IGS和VCR接口形式

实现半导体设备的高气密性

模块化

模块化

采用模块化设计,设备结构紧凑、模块化设计

便于维护和更换部件。nm以上的颗粒杂质

安全认证

安全认证

通过SEMI S6测试安全认证

产品参数

外漏测试漏率 ≤1.0X10-11/mbar·L/s
内漏测试漏率 ≤1.0X10-9/mbar·L/s
保压测试50psi 氮气保压测试,保压12h,压降 ≤1%
氦爆测试漏率 ≤1.0X10-9/mbar·L/s;(可选)
颗粒测试 (5 particle @ >0.1um)
水氧测试 水含量≤10PPB,氧含量≤10PPB;(可选)

质量管理

富创质量管理秉承"好的质量是设计、制造出来的"为原则,关注客户端到端的质量服务,从研发、设计、过程全生命周期质量管理关注各环节中入口质量、过程质量、出口质量,以保证整体质量可控,最终构建成以以预防为主的质量文化,助力客户产品更具竞争力。

质量管理

服务热线

024-31692130

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